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小型濺射儀是種常見(jiàn)的表面處理設(shè)備

更新時(shí)間:2023-10-09點(diǎn)擊次數(shù):1078
  小型濺射儀是種常見(jiàn)的表面處理設(shè)備,其原理是利用高能離子束轟擊固體材料,以改變其表面性質(zhì)。主要由濺射靶、工作室、真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成。其中關(guān)鍵的部分是濺射靶和工作室。濺射靶材料是由所需要改變其表面性質(zhì)的物質(zhì)組成,如金屬、陶瓷等。工作室是一個(gè)真空環(huán)境,用于避免氧氣、水蒸氣等對(duì)濺射過(guò)程的干擾。
 
  在工作時(shí),首先需要將工作室抽成高真空狀態(tài)。通過(guò)真空泵抽取工作室內(nèi)的氣體,減少對(duì)離子束的干擾。接下來(lái),將濺射靶放置在工作室內(nèi),并將需要處理的物體(如基板)放在靶的正對(duì)方向。然后,靶與工作室中的氣體形成離子束和中性粒子束,向基板發(fā)射。
 
  離子束通過(guò)靶材料的轟擊,使其表面原子或分子從靶材料上解離,形成離子。這些離子沿著濺射的方向飛向基板,與其表面發(fā)生碰撞。碰撞后,離子的能量和動(dòng)量轉(zhuǎn)移給基板表面的原子或分子,使其進(jìn)入較高的能級(jí)。通過(guò)這種能量和動(dòng)量的轉(zhuǎn)移,濺射靶材料的物質(zhì)被轉(zhuǎn)移到基板表面,形成覆蓋層。
 
  這個(gè)過(guò)程有一定的選擇性,即只有一部分靶材料的原子或分子能夠從靶材料上解離并達(dá)到基板表面。這是因?yàn)?,只有在靶材料中具有足夠的表面能量的原子或分子才能從表面解離,并且在離子束的轟擊下具有足夠的能量到達(dá)基板表面。
 
  通過(guò)控制離子束的能量和強(qiáng)度以及濺射時(shí)間,可以調(diào)節(jié)覆蓋層的厚度和成分。此外,也可以通過(guò)改變靶材料的種類,實(shí)現(xiàn)不同性質(zhì)的覆蓋層的制備。
  小型濺射儀
  小型濺射儀的維護(hù)保養(yǎng)方法:
 
  1.定期清洗濺射室內(nèi)的沉積物和雜質(zhì),以保持室內(nèi)的清潔。
 
  2.定期檢查濺射靶和固定樣品的裝置,確保其正常工作和穩(wěn)定性。
 
  3.定期檢查和更換濺射材料,以保證濺射質(zhì)量和效果。
 
  4.定期檢查和維護(hù)真空泵和氣體供應(yīng)系統(tǒng),確保其正常運(yùn)行。
 
  5.定期校準(zhǔn)和調(diào)試濺射儀的工藝參數(shù),以確保其性能穩(wěn)定。
 
  6.注意避免濺射室與外部環(huán)境的下雨和潮濕,以避免影響儀器的正常使用和壽命。
 
  7.對(duì)于長(zhǎng)時(shí)間不使用的濺射儀,應(yīng)將其放置在干燥通風(fēng)的環(huán)境中,并注意防塵、防潮。
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